半导体生产废水处理新技术的开发
发布日期：2022-10-25 15:35:47
导读 酒精用于在制造过程中去除半导体或电子产品表面的杂质，而含有酒精的废水则采用反渗透、臭氧和生物分解等方法进行处理。虽然这些方法可以降
酒精用于在制造过程中去除半导体或电子产品表面的杂质，而含有酒精的废水则采用反渗透、臭氧和生物分解等方法进行处理。虽然这些方法可以降低废水中的酒精浓度，但它们不能完全分解低酒精浓度废水中的酒精。
这是因为酒精与水混溶，使用物理方法无法将酒精与酒精完全分离，而化学或生物处理效率极低。出于这个原因，低酒精浓度的废水主要在排放前用大量的清水稀释。
极端材料研究中心的 Sang Hoon Kim 博士和 Gun-hee Moon 博士领导的一个研究小组开发了一种光催化剂，通过在铁中添加非常微量的铜，可以在短时间内完全分解水中的微量酒精氧化物，在高级氧化过程中用作催化剂。
研究小组采用芬顿氧化法，在水处理的高级氧化过程中使用氧化剂和催化剂。在其他高级氧化工艺 (AOP) 研究中，醇通常用作验证芬顿氧化过程中自由基产生的试剂，它们是本研究中从半导体废水中去除的目标。
这种水处理技术有望显着降低用于处理半导体废水的成本和水资源。过去，为了将废水中10 ppm的酒精浓度降低到 1 ppm 以下，需要使用比处理废水体积大 10 倍的清洁水来稀释废水。
如果将KIST开发的光催化剂用于水处理，可以节约水资源。研究小组将光催化剂应用于半导体工厂的废水，以证明在工业实践中可以达到与实验室观察到的相似的酒精分解水平。
“随着大规模半导体生产线的建立，我们预计对半导体废水处理的需求将迅速增加，”金博士说。“我们的研究结果将提供一种解决方案，以使用更少的资源和更低的成本有效处理半导体废水，”他补充说。
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